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1、保持設備或Fore-line清潔度和真空度.因Pump狀態和作業等可能引起的污染,必要時進行隔離
2. Process以外設備或Fore-line作業時,防止Pump過載或污染
3、Pump Trip時快速關閉,防止或較小化Back stream & Contaminationsource逆流
4、保護Chamber和Wafer免受ParticIe等污染
1、保持設備或Fore-line清潔度和真空度.因Pump狀態和作業等可能引起的污染,必要時進行隔離
2. Process以外設備或Fore-line作業時,防止Pump過載或污染
3、Pump Trip時快速關閉,防止或較小化Back stream & Contaminationsource逆流
4、保護Chamber和Wafer免受ParticIe等污染
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