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          1、保持設備或Fore-line清潔度和真空度.因Pump狀態和作業等可能引起的污染,必要時進行隔離
          2. Process以外設備或Fore-line作業時,防止Pump過載或污染
          3、Pump Trip時快速關閉,防止或較小化Back stream & Contaminationsource逆流
          4、保護Chamber和Wafer免受ParticIe等污染
          產品詳情

          1、保持設備或Fore-line清潔度和真空度.因Pump狀態和作業等可能引起的污染,必要時進行隔離


          2. Process以外設備或Fore-line作業時,防止Pump過載或污染


          3、Pump Trip時快速關閉,防止或較小化Back stream & Contaminationsource逆流


          4、保護Chamber和Wafer免受ParticIe等污染

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          3、Pump Trip時快速關閉,防止或較小化Back stream & Contaminationsource逆流
          4、保護Chamber和Wafer免受ParticIe等污染
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          1、保持設備或Fore-line清潔度和真空度.因Pump狀態和作業等可能引起的污染,必要時進行隔離


          2. Process以外設備或Fore-line作業時,防止Pump過載或污染


          3、Pump Trip時快速關閉,防止或較小化Back stream & Contaminationsource逆流


          4、保護Chamber和Wafer免受ParticIe等污染

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